Установка плазменной обработки Diener Electronic Zepto

Код товара: 114431
Бренд: Diener Electronic
Страна: Германия
Diener Electronic
Группа Компаний ПРОПРИБОРЫ поставляет продукцию Diener Electronic, Германия
Установка плазменной обработки Diener Electronic Zepto предназначена для плазмохимической обработки небольших образцов в R&D-лабораториях и на опытных производствах. С помощью бюджетных малогабаритных установок можно проводить все основные виды плазменной обработки при минимальных затратах. Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию, идеально подходящую для конкретного...
Перейти к полному описанию >
В наличии

Цена по запросу

Добровольная сертификация
Ваш регион: Москва
Срок поставки: от 5-ти рабочих дней
Самовывоз: ул. Дорожная, д. 29, ворота 19
Бесплатная доставка возможна по согласованию с менеджерами ваших заказов

Установка плазменной обработки Diener Electronic Zepto предназначена для плазмохимической обработки небольших образцов в R&D-лабораториях и на опытных производствах. С помощью бюджетных малогабаритных установок можно проводить все основные виды плазменной обработки при минимальных затратах. Различные варианты материалов камеры и типов генераторов позволяют получить конфигурацию, идеально подходящую для конкретного применения.

Установки Zepto представляют собой компактный настольный металлический корпус, в котором расположены: вакуумная камера, выполненная из боросиликатного стекла или кварца; ВЧ-генератор 40 кГц или 13,56 МГц; газовая арматура и контроллеры. Вакуумная камера закрывается быстросъемной крышкой. Управление осуществляется аналоговыми переключателями или при помощи сенсорного дисплея. Также возможен вариант управления посредством внешнего компьютера. Основными преимуществами установок серии Zepto являются низкая стоимость и малые сроки изготовления.

Области применения

  • Керамика 60x48 мм: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР
  • Полупроводниковые пластины до 3″: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР
  • R&D и исследования

Камера

Круглая камера из кварца с крышкой Ø105 мм, глубина 200 или 300 мм

Круглая камера из боросиликатного стекла с крышкой Ø105 мм, глубина 200 или 300 мм

Объем камеры1,7-2,6 л
Газовая системаИгольчатые клапаны, ротаметры
Генератор плазмы40 кГц: 30 или 100 Вт
13,56 МГц: 50 Вт
ЭлектродОдно- или многоуровневый электрод
Управление

Ручное

Автоматическое (сенсорный дисплей)

Автоматическое (ПК)

Датчик давленияПирани
Загрузка образцов

Поддон из алюминия

Поддон из нержавеющей стали

Поддон из боросиликатного стекла

Поддон из кварца

Вакуумный насосРазличные варианты под требования заказчика
Габариты (ШxВxГ)425x185x450 мм
  • Установка плазменной обработки
  • Руководство по эксплуатации
  • Гарантийный талон
  • Упаковка